СПЕКТРОСКОПИЯ F3+-ЦЕНТРОВ ОКРАСКИ В КРИСТАЛЛАХ ФТОРИДА ЛИТИЯ (Обзор)

А. П. Войтовича, В. С. Калинова*, Дж. Балдакиниб,

Р. М. Монтереалиб, М. Кремонав

УДК 535.343.2:539.12.43

а Институт молекулярной и атомной физики НАН Беларуси,

220072, Минск, просп. Ф. Скорины, 70

бENEA, Area INN, Dip. Sviluppo Tecnologie di Punta, C.R.E. Frascati, Italy

вDep. Fisica, Pontificia Universidade Catolica do Rio de Janeiro, Brasil

(Поступила 19 ноября 1997)
Представлены результаты исследований радиационных F3+-центров окраски во фториде лития, полученные методами одно- и двухфотонного поглощения, поляризационной спектроскопии, люминесценции в синглетном, триплетном и триплет-синглетном каналах. Уточнена схема энергетических уровней F3+-центра. Приведены вероятности синглет-триплетной конверсии и скорости опустошения нижнего триплетного состояния в диапазоне 80—350 К. Даны рекомендации по технологии радиационного окрашивания LiF, обеспечивающие увеличение концентрации F3+-центров и уменьшение концентрации некоторых других центров, препятствующих получению генерации на LiF : F3+-активной среде. Проанализированы фототрансформации центров окраски в LiF. Рассмотрены параметры лазеров с LiF : F3+-активными средами, обеспечивающих генерацию перестраиваемого в зеленой области спектра излучения. На основе спектроскопических данных обсуждены предельно достижимые временные характеристики таких лазеров. Кратко намечены перспективы дальнейших исследований лазеров с LiF : F3+-активными средами.

Ключевые слова: радиационный центр окраски, фторид лития, поглощение, люминесценция, триплетное состояние, уровень энергии, фототрансформация, лазер.