ЖУРНАЛ ПРИКЛАДНОЙ СПЕКТРОСКОПИИ
БИСТАБИЛЬНОСТЬ ПРОПУСКАНИЯ ТОНКОГО СЛОЯ ВЕЩЕСТВА С КВАЗИРЕЗОНАНСНЫМИ КОМПОНЕНТАМИ ПОЛЯРИЗУЕМОСТИ

В. А. Юревич

УДК 535.32:621.373
Институт прикладной оптики НАН Беларуси,

212793, Могилев, ул. Бялыницкого-Бирули, 11

(Поступила 25 апреля 1998)
Проведен расчет условий бистабильности в пропускании тонкого (меньше длины волны воздействующего лазерного излучения) поверхностного слоя резонансных атомов. Учтено влияние на проницаемость среды слоя поляризующих полей переходов, соседних с резонансным и разрешенных в электродипольном приближении. Отмечено, что следствием влияния возникающего при этом автомодуляционного уширения линии лазерного поля в тонком резонансно поляризуемом слое на эффективный уровень его поглощения является изменение пороговых характеристик бистабильности.

Ключевые слова: безрезонаторная оптическая бистабильность, тонкий поверхностный слой поляризуемой среды, резонансная нелинейная рефракция.